光刻机是一种将目标结构图样印刷到硅片等基底上的机器，其机理类似照片冲印过程。光刻机（Mask Aligner），又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。
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由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。
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光功率计用于测量绝对光功率或通过一段光纤的光功率相对损耗。
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光学显微镜是利用光学原理，把人眼所不能分辨的微小物体放大成像，以供人们提取微细结构信息的光学仪器。
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